SALIENCE / INTELLIGENCE覆盖 42 个厂商 / 10 个国别
聚焦光学技术。
看清下一步。
从中国专利信号,到材料、工艺与竞争决策。
已清洗的跟踪清单
不等同于全量专利库
LATEST SIGNALS
最新新增提醒
按发现时间排列 · 保留待复核提示
PATENT EXPLORER
专利详情与深度分析
点击任意专利展开深度分析;点选建议动作可自动生成执行结果,并下载 CSV、Markdown 或 JSON 数据。
找到 条记录 · 已应用筛选
按公开 / 授权日从新到旧
| 日期 / 状态 | 专利与申请人 | 技术方向 | 关注度 |
|---|
没有匹配记录
试试缩短关键词,或重置厂商与状态筛选。
GLOBAL FOOTPRINT
全球布局 · 谁在向中国布局
清单里的每一条都是中国专利记录。弧线从各监控主体的总部所在国别飞向北京(国家知识产权局所在地),粗细与粒子数量对应该国别在清单中的记录数;虚线圆点是已纳入监控但暂无已清洗记录的国别。拖动可旋转,点国别可筛选。
拖动旋转 · 点击国别筛选 · 静止 9 秒后恢复自转
DOMESTIC FOOTPRINT
中国申请人分布
按申请人名称中出现的省 / 市归属:一条记录有几个含地名的申请人就计入几个地方,名称不含地名的申请人(例如境外总部直接申请)不计入。点阵只表示国土轮廓,不绘制行政边界。
点击省市按地名全文检索(结果可能多于落点计数) · 数字为申请人含该地名的记录数 · 橙色表示高关注占比超过三分之二
MOMENTUM & DIRECTION
趋势与技术方向
统计口径为当前种子清单。趋势用于识别监控重心,不用于代替完整专利计量分析。
高频方向分布
RHYTHM OF DISCLOSURE
公开节奏时间轴
脊线是当前清单按公开 / 授权月份的收录分布,随滚动逐段点亮,用来看监控重心如何随时间迁移。口径是本清单的收录节奏,不等于各厂商的全量公开量。
TECHNOLOGY GRAPH
技术图谱关联网络
圆点是厂商主体,按总部国别着色;菱形是在清单中出现两次以上的技术标签。连线表示该厂商出现过该标签,线宽为共现次数。可拖拽重排,点击节点直接联动上方检索。
拖拽节点可重排 · 点击厂商节点按厂商筛选 · 点击标签节点按标签检索
连线只反映清单内标签共现,不代表权利要求重叠或侵权风险。
COVERAGE MATRIX
厂商 × 国别 覆盖矩阵
按总部所在国别 / 地区分行;气泡大小代表当前清单中的记录数,光晕强度代表高关注占比,虚线气泡是已纳入监控但尚无已清洗记录的主体。
CHANGELOG
新增日志
每天的自动巡检会把新公开号、授权号、状态变化和数据质量修订追加到这里。